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    • 政策法規(guī)
    注冊香港公司好處

    關于研發(fā)機構采購設備稅收政策的通知

      為了鼓勵科學研究和技術開發(fā),促進科技進步,經國務院批準,對外資研發(fā)中心進口科技開發(fā)用品免征進口稅收,對內外資研發(fā)機構采購國產設備全額退還增值稅。現(xiàn)將有關事項具體明確如下:
      一、外資研發(fā)中心適用《科技開發(fā)用品免征進口稅收暫行規(guī)定》(財政部、海關總署、國家稅務總局令第44號)免征進口稅收,根據(jù)其設立時間,應分別滿足下列條件:
      (一)對2009年9月30日及其之前設立的外資研發(fā)中心,應同時滿足下列條件:
      1.研發(fā)費用標準:(1)對新設立不足兩年的外資研發(fā)中心,作為獨立法人的,其投資總額不低于500萬美元;作為公司內設部門或分公司的,其研發(fā)總投入不低于500萬美元;(2)對設立兩年及以上的外資研發(fā)中心,企業(yè)研發(fā)經費年支出額不低于l000萬元。
      2.專職研究與試驗發(fā)展人員不低于90人。
      3.設立以來累計購置的設備原值不低于1000萬元。
      (二)對2009年10月1日及其之后設立的外資研發(fā)中心,應同時滿足下列條件:
      1.研發(fā)費用標準:作為獨立法人的,其投資總額不低于800萬美元;作為公司內設部門或分公司的,其研發(fā)總投入不低于800萬美元。
      2.專職研究與試驗發(fā)展人員不低于150人。
      3.設立以來累計購置的設備原值不低于2000萬元。
      具體審核辦法由商務部會同財政部、海關總署、國家稅務總局另行制定。
      二、適用采購國產設備全額退還增值稅政策的內外資研發(fā)機構包括:
      (一)《科技開發(fā)用品免征進口稅收暫行規(guī)定》(財政部、海關總署、國家稅務總局令第44號)規(guī)定的科學研究、技術開發(fā)機構。
      (二)《科學研究和教學用品免征進口稅收規(guī)定》(財政部、海關總署、國家稅務總局令第45號)規(guī)定的科學研究機構和學校。
      (三)符合本通知第一條規(guī)定條件的外資研發(fā)中心。
      具體退稅管理辦法由國家稅務總局會同財政部另行制定。
      三、本通知所述設備,是指本通知附件所列的為科學研究、教學和科技開發(fā)提供必要條件的實驗設備、裝置和器械。    ’
      四、本通知執(zhí)行期限為2009年7月1日至2010年12月31日。
     
    科技開發(fā)、科學研究和教學設備清單
      為科學研究、教學和科技開發(fā)提供必要條件的實驗設備、裝置和器械(不包括中試設備),具體包括以下三類:
      一、實驗環(huán)境方面
      (一)教學實驗儀器及裝置;  
      (二)教學示教、演示儀器及裝置;
      (三)超凈設備(如換氣、滅菌、純水、凈化設備等);
      (四)特殊實驗環(huán)境設備(如超低溫、超高溫、高壓、低壓、強腐蝕設備等);
      (五)特殊電源、光源(如電極、開關、線圈、各種光源等);
      (六)清洗循環(huán)設備;
      (七)恒溫設備(如水浴、恒溫箱、滅菌儀等);
      (八)小型粉碎、研磨制備設備。
      二、樣品制備設備和裝置
      (一)特種泵類(如分子泵、離子泵、真空泵、蠕動泵、蝸輪泵、干泵等);
      (二)培養(yǎng)設備(如培養(yǎng)箱、發(fā)酵罐等);
      (三)微量取樣設備(如移液管、取樣器、精密天平等);
      (四)分離、純化、濃縮設備(如離心機、層析、色譜、萃取、結晶設備、旋轉蒸發(fā)器等);
      (五)氣體、液體、固體混合設備(如旋渦混合器等):
      (六)制氣設備、氣體壓縮設備:
      (七)專用制樣設備(如切片機、壓片機、鍍膜機、減薄儀、拋光機等),實驗用注射、擠出、造粒、膜壓設備:實驗室樣品前處理設備;
      (八)實驗室專用小器具(如分配器、量具、循環(huán)器、清洗器、工具等)。
      三、實驗室專用設備
      (一)特殊照相和攝影設備(如水下、高空、高溫、低溫等);
      (二)科研飛機、船舶用關鍵設備和部件:
      (三)特種數(shù)據(jù)記錄設備及材料(如大幅面掃描儀、大幅面繪圖儀、磁帶機、光盤機等):
      (四)特殊電子部件(如電路板、特種晶體管、專用集成電路等):
      (五)材料科學專用設備(如干膠儀、特種坩堝、陶瓷、圖形轉換設備、制版用于板、特種等離子體源、離子源、外延爐、擴散爐、濺射儀、離子刻蝕機,材料實驗機等),可靠性試驗設備,微電子加工設備,通信模擬仿真設備,通信環(huán)境試驗設備;
      (六)小型熔煉設備(如真空、粉末、電渣等),特殊焊接設備;
      (七)小型染整、紡絲試驗專用設備;
      (八)電生理設備。
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